首页> 中国专利> 形成金属氧化物膜的方法和在气体放电管中形成二次电子发射膜的方法

形成金属氧化物膜的方法和在气体放电管中形成二次电子发射膜的方法

摘要

根据本发明,提供一种形成金属氧化物膜的方法,该方法包括:当通过对在管内壁上形成的含有有机金属化合物的涂层膜进行热处理以形成金属氧化物膜时,在热处理之前或与热处理同时对涂层膜进行紫外照射处理或臭氧处理。

著录项

  • 公开/公告号CN1309863C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-04-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN03154968.3

  • 申请日2003-08-19

  • 分类号C23C20/08(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人任宗华

  • 地址 日本神奈川

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 20/08 授权公告日:20070411 终止日期:20140819 申请日:20030819

    专利权的终止

  • 2015-10-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 20/08 授权公告日:20070411 终止日期:20140819 申请日:20030819

    专利权的终止

  • 2007-09-05

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070727 申请日:20030819

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移

  • 2007-09-05

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移 登记生效日:20070727 变更前: 变更后: 申请日:20030819

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移

  • 2007-09-05

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070727 申请日:20030819

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移

  • 2007-04-11

    授权

    授权

  • 2007-04-11

    授权

    授权

  • 2004-07-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-07-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-05-12

    公开

    公开

  • 2004-05-12

    公开

    公开

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