法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-01-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06N 7/00 授权公告日:20070502 终止日期:20111126 申请日:20031126
专利权的终止
2007-05-02
授权
授权
2005-06-08
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-04-06
公开
公开
机译: 在半导体光刻的投射曝光系统中用于引导电磁辐射的装置,具有用于机械操纵光纤的致动器,以便使出射端的强度分布均匀化
机译: 用于巡航控制系统中的机动车目标检测装置和分离控制单元,具有调整单元,该调整单元基于评估的射束反射强度来优化雷达射束对准
机译: 用于微光刻投影曝光系统的掩模照明方法,涉及确定强度分布,使得尽管变形效应,Y方向和X方向的光具有相同的数值孔径