法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-31
授权
授权
2017-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C24/10 申请日:20161009
实质审查的生效
2017-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 24/10 申请日:20161009
实质审查的生效
2017-02-15
公开
公开
2017-02-15
公开
公开
机译: 溅射沉积单元可用于在半导体晶片上沉积钛和氮化钛涂层,其溅射靶具有非靶材表面,用于接收靶材并将靶材重新溅射到工件外围
机译: 具有氮化钛涂层的阻挡层,用于铜金属化层,该阻挡层的介电常数较小
机译: 具有形态学的氮化钛铝涂层,适用于涉及机械和涂覆基材的方法的操作中的增强的耐磨性