一种钼表面离子渗硫制备二硫化钼渗层的方法

摘要

本发明提供了一种钼表面离子渗硫制备二硫化钼渗层的方法，包括以下步骤：一、对钼基体依次进行打磨、超声波清洗、流水冲洗和烘干处理；二、对烘干后的钼基体进行离子轰击清洗；三、采用二硫化碳和氩气的混合气体为含硫气体，然后向离子氮化炉内通入含硫气体，对钼基体进行离子渗硫处理，在钼基体的表面得到二硫化钼渗层。本发明采用二硫化碳和氩气的混合气体为含硫气体，通过对离子轰击清洗后的钼表面进行渗硫处理，在钼表面得到组织均匀致密的二硫化钼渗层，能够显著提高钼的耐磨性能。