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反0.532μm及1.064μm、透0.6μm-0.9μm光谱分光膜的膜系结构

摘要

本发明提出一种反0.532μm及1.064μm、透0.6μm‑0.9μm光谱分光膜的膜系结构,包括透明基片和分光膜膜系,分光膜膜系由两种薄膜材料H和二氧化硅,按照结构Glass|(2/3H4/3SiO2)m|Air或Glass|(4/3H2/3SiO2)m|Air制备得到,其中薄膜材料H为二氧化钛、二氧化锆或五氧化二钽,m为重复周期;分光膜膜系中的部分膜层采用非极值层。该膜系结构对0.532μm及1.064μm的激光高反射,对0.6μm‑0.9μm的光高透过,并且能经受住高、低温存储,温度冲击等环境试验,附着力试验及中度摩擦试验。

著录项

  • 公开/公告号CN105842768B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安应用光学研究所;

    申请/专利号CN201610273593.8

  • 发明设计人 赵兴梅;董莹;

    申请日2016-04-28

  • 分类号G02B5/20(20060101);G02B5/26(20060101);C03C17/34(20060101);

  • 代理机构61204 西北工业大学专利中心;

  • 代理人陈星

  • 地址 710065 陕西省西安市雁塔区电子三路西段九号

  • 入库时间 2022-08-23 10:15:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-28

    授权

    授权

  • 2016-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/20 申请日:20160428

    实质审查的生效

  • 2016-08-10

    公开

    公开

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