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致使对集成电路的逆向工程更加困难的集成电路制造方法、以及对应的集成电路

摘要

本发明的各个实施例涉及:致使对集成电路的逆向工程更加困难的集成电路制造方法、以及对应的集成电路。一种集成电路,其包括具有形成在其上的多个功能块的衬底。至少两个相同的功能块分别设置在集成电路上的两个或更多个不同位置处。提供了在功能块的内部和/或邻近区域中的电无源伪模块,其中至少两个不同的电无源伪模块被包括在该至少两个相同的功能块的内部和/或邻近区域中。

著录项

  • 公开/公告号CN105390432B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 意法半导体(鲁塞)公司;

    申请/专利号CN201510490352.4

  • 发明设计人 P·弗纳拉;C·里韦罗;G·鲍顿;

    申请日2015-08-11

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 法国鲁塞

  • 入库时间 2022-08-23 10:15:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-31

    授权

    授权

  • 2016-04-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/70 申请日:20150811

    实质审查的生效

  • 2016-03-09

    公开

    公开

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