公开/公告号CN106104385B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-10
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201580015661.4
发明设计人 S·C·布勒斯;
申请日2015-04-15
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王静
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 10:15:09
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-10
授权
授权
2016-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20150415
实质审查的生效
2016-11-09
公开
公开
机译: 方法,用于光刻设备的防护膜,光刻设备,器件制造方法,用于防护膜的设备以及用于制造该光刻设备的防护膜的用于防护膜的方法
机译: 光刻设备的校准方法,掩模,用于光刻设备校准的光刻设备,器件制造方法,由此制造的器件
机译: 光刻设备的校准方法,用于光刻设备的校准的掩模,光刻设备,器件制造方法,由此制造的器件