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用于光致抗蚀剂的交联单体，及使用其制备光致抗蚀剂聚合物的方法

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摘要

本发明揭示一种化学式1的交联单体，使用该单体制备光致抗蚀剂聚合物的方法，及该光致抗蚀剂聚合物。

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1. 用于光致抗蚀剂的交联单体，及使用其制备光致抗蚀剂聚合物的方法 [P] . 中国专利： CN1303114C . 2007.03.07
2. 光致抗蚀剂组合物、用于制造光致抗蚀剂涂层、经蚀刻的光致抗蚀剂涂层和经蚀刻的含硅层的方法以及制造使用其的器件的方法 [P] . 中国专利： CN112292637A . 2021-01-29
3. Cross-linking monomers for photoresist, and process for preparing photoresist polymers using the same [P] . 美国专利： US2002177069A1 . 2002-11-28

机译：用于光致抗蚀剂的交联单体，以及使用该交联单体制备光致抗蚀剂聚合物的方法
4. CROSSLINKING MONOMERS FOR PHOTORESIST, AND METHOD FOR PREPARING PHOTORESIST POLYMERS USING THE SAME [P] . 法国专利： FR2788062A1 . 2000-07-07

机译：用于光致抗蚀剂的交联单体，以及使用该交联单体制备光致抗蚀剂聚合物的方法
5. Cross-linking monomers for photoresist, and process for preparing photoresist polymers using the same [P] . 英国专利： GB2345286A . 2000-07-05

机译：用于光致抗蚀剂的交联单体，以及使用该交联单体制备光致抗蚀剂聚合物的方法