使用较宽离子束的较低剂量离子注入

摘要

在用于工件的较低剂量离子注入的示例性工艺中，可以利用离子源和提取操纵器来产生离子束。提取操纵器可定位成与所述离子源的出口孔相距间隙距离。当所述提取操纵器定位成与所述出口孔相距最优间隙距离时，可使退出离子操纵器的离子束的电流最大。提取操纵器定位成与出口孔相距的间隙距离可与所述最优间隙距离相差至少百分之十。可对第一组电极施加第一电位。在离子束穿过第一组电极时，离子束的x维度可增加。工件可定位在离子束中以将离子注入工件。