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一种用团簇固溶模型稳定N的高硬度Cu合金薄膜及其制备方法

摘要

一种用团簇固溶模型稳定N的高硬度Cu合金薄膜及其制备方法,属新材料技术领域。在含N气氛中溅射薄膜,将一定团簇比例的(Ni,Nb)添加到Cu中以稳定N,调节合金元素的比例,可控制固定的N含量,使Cu合金薄膜中Nb/Ni原子百分比为0.5/12~2/12,Nb、Ni与N的原子百分比总含量为2~6%,进而调节薄膜的硬度和电阻率。该Cu合金薄膜有如下特点:1、Cu薄膜中添加团簇比例的合金元素以稳定N,在保证硬度的同时兼顾较低电阻率;2、可通过调节团簇中合金元素的比例,控制最终稳定的N含量,进而调节Cu合金薄膜的硬度和电阻率。具有高硬度的Cu合金薄膜适宜用在Cu及其合金的表面。

著录项

  • 公开/公告号CN105648402B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连理工大学;

    申请/专利号CN201610005232.5

  • 发明设计人 李晓娜;郑月红;董闯;

    申请日2016-01-06

  • 分类号

  • 代理机构大连星海专利事务所有限公司;

  • 代理人花向阳

  • 地址 116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号

  • 入库时间 2022-08-23 10:12:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-22

    授权

    授权

  • 2016-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/14 申请日:20160106

    实质审查的生效

  • 2016-06-08

    公开

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