首页> 中国专利> 用于磁记录的装置和在两个磁性材料之间形成间隙的方法

用于磁记录的装置和在两个磁性材料之间形成间隙的方法

摘要

本申请公开了磁性材料之间的间隙。根据一个实施例,一种方法可通过如下实施:在磁性材料的主磁极层上沉积材料的非磁性间隙层;在材料的非磁性间隙层上沉积材料的牺牲层;蚀刻所述材料的牺牲层的部分,并不完全去除所述材料的牺牲层;并将其他的牺牲材料沉积到所蚀刻的牺牲层。

著录项

  • 公开/公告号CN104050986B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 希捷科技有限公司;

    申请/专利号CN201410086587.2

  • 申请日2014-03-11

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人何焜

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:12:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-19

    授权

    授权

  • 2014-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11B5/60 申请日:20140311

    实质审查的生效

  • 2014-09-17

    公开

    公开

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