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一种Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器及其制备方法

摘要

本发明公开了一种Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器及其制备方法,具体是指以c面蓝宝石单晶为衬底,采用磁控溅射生长沿着晶面择优生长的Zn掺杂β‑Ga2O3薄膜(Zn:Ga2O3)作为光吸收层,并在其上溅射Au/Ti叉指电极作为光生载流子的收集电极,制备获得的Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器。本发明通过Zn掺杂提高了Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器的光响应速度,采用在Ga2O3靶材起辉圈周围放置特定数量的Zn颗粒生长特定浓度Zn:Ga2O3薄膜,方法简单。本发明采用商业化的制备方法磁控溅射生长薄膜,工艺可控性强,易操作,所得薄膜表面致密、厚度稳定均一、可大面积制备、重复性好。该发明制备的Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器在日盲紫外探测领域具有潜在的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN106409963B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江理工大学;

    申请/专利号CN201610837110.2

  • 申请日2016-09-21

  • 分类号H01L31/09(20060101);H01L31/0264(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人郑海峰

  • 地址 310018 浙江省杭州市江干区下沙白杨街道2号大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 10:12:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-15

    授权

    授权

  • 2017-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/09 申请日:20160921

    实质审查的生效

  • 2017-02-15

    公开

    公开

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