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一种金属介质膜光栅的消色差相位延迟器

摘要

本发明属于光学器件技术领域,涉及一种金属介质膜光栅的消色差相位延迟器,其主体结构包括自上而下的SiO2覆盖膜层和银质光栅结构,所述光栅结构上有通过蚀刻方法获得的光栅槽,该发明涉及的主要参数如下,覆盖膜层的折射率为1.46,覆盖膜层的厚度为154.2nm,光栅槽槽深为139.7nm,光栅结构的占空比为0.14,光栅结构的周期为68nm,入射角为20°‑40°,该发明在900‑1200nm波段其相位延迟量在90°的范围内最大偏差小于2.3%,该发明采用金属介质膜光栅结构,其透射率高、宽光谱、偏振性能好,适合工艺上的生产制备,性能上满足光学领域对位相延迟器的要求,其主体结构简单,安装使用方便,具有良好的市场应用前景,应用环境友好。

著录项

  • 公开/公告号CN106019456B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 青岛大学;

    申请/专利号CN201610670077.9

  • 申请日2016-08-15

  • 分类号G02B5/30(20060101);

  • 代理机构青岛高晓专利事务所(普通合伙);

  • 代理人张世功

  • 地址 266000 山东省青岛市崂山区香港东路7号

  • 入库时间 2022-08-23 10:12:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B5/30 授权公告日:20180525 终止日期:20190815 申请日:20160815

    专利权的终止

  • 2018-05-25

    授权

    授权

  • 2016-11-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/30 申请日:20160815

    实质审查的生效

  • 2016-10-12

    公开

    公开

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