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研磨垫的表面粗糙度测定方法和测定装置,及CMP方法

摘要

一种研磨垫(2)的表面粗糙度测定方法,其由如下工序构成:使用激光显微镜(30)获得研磨垫表面图像的图像获得工序;从获得的图像内仅选择高度比平均高度高的区域的区域选择工序;以及仅从选择的区域算出表面粗糙度的工序。采用本发明,可测定与研磨性能显示较强的相关性的研磨垫的表面粗糙度指标。

著录项

  • 公开/公告号CN104422408B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社荏原制作所;

    申请/专利号CN201410414805.0

  • 发明设计人 松尾尚典;

    申请日2014-08-21

  • 分类号

  • 代理机构上海市华诚律师事务所;

  • 代理人梅高强

  • 地址 日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

  • 入库时间 2022-08-23 10:11:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-18

    授权

    授权

  • 2016-07-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/30 申请日:20140821

    实质审查的生效

  • 2015-03-18

    公开

    公开

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