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GaN基异质结透明薄膜透射电子显微镜截面样品制备方法

摘要

本发明公开了一种GaN基异质结透明薄膜透射电子显微镜截面样品制备方法,主要解决现有制备方法中GaN基异质结透明薄膜样品在离子减薄时容易造成薄膜减薄过度导致样品制备成功率低的问题。其技术方案是:1.对GaN基异质结薄膜材料和Si片进行切割、清洗;2.将清洗后的样品与Si片进行胶对粘,并在加热台上加热固化;3.将样品截面机械研磨至20~30μm时,采用倾斜磨抛工艺,使Si片一侧出现楔形刃口;4.将样品粘至“∩”形铜环,采用精密离子束减薄设备对其进行离子减薄,直至Si片逐渐消减至粘胶处,完成样品制备。本发明具有省时、高效的特点,可用于表征GaN基异质结透明薄膜的透射电子显微镜微观缺陷结构。

著录项

  • 公开/公告号CN105628468B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201510995925.9

  • 申请日2015-12-28

  • 分类号G01N1/28(20060101);

  • 代理机构61205 陕西电子工业专利中心;

  • 代理人王品华;朱红星

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2022-08-23 10:11:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-15

    授权

    授权

  • 2016-06-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N1/28 申请日:20151228

    实质审查的生效

  • 2016-06-01

    公开

    公开

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