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公开/公告号CN105628468B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-15
原文格式PDF
申请/专利权人 西安电子科技大学;
申请/专利号CN201510995925.9
发明设计人 马晓华;宋芳;雷毅敏;马佩军;钟决坤;王湛;
申请日2015-12-28
分类号G01N1/28(20060101);
代理机构61205 陕西电子工业专利中心;
代理人王品华;朱红星
地址 710071 陕西省西安市太白南路2号
入库时间 2022-08-23 10:11:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-15
授权
2016-06-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N1/28 申请日:20151228
实质审查的生效
2016-06-01
公开
机译: GaAs,GaN基复合半导体的透射电子显微镜样品的制备及其层状结构分析
机译: 透射电子显微镜的截面样品制备方法
机译: 截面透射电子显微镜样品的制备方法
机译:专用聚焦离子束系统的复合材料截面透射电子显微镜样品制备方法
机译:碳纳米管-催化剂-基体异质结构的截面透射电子显微镜,用于样品前处理的新方法
机译:基于同步辐射的n-ZnO:AI / p-GaN:Mg异质结的截面扫描光电子显微镜和光谱
机译:聚焦离子束制备的透射电子显微镜截面样品的宽离子束铣削,用于使用硅支撑膜的高分辨率电子显微镜
机译:透射电子显微镜研究陶瓷氧化物异质结中的成核,生长和界面。
机译:通过优化MgO层间厚度从ZnO量子点基/ GaN异质结二极管中装饰银的局部表面等离子体增强紫外电致发光
机译:可视化聚合物。聚合物系统形成的图案。 I.一种新型样品制备方法(深度蚀刻截面法)的开发和一些应用,用于使用透射电子显微镜观察聚合物材料的高阶结构。
机译:Cu / sub 2-X / s / Cds单晶异质结的形成和降解:高分辨率透射电子显微镜研究