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一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶

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本发明公开了一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶，所述光敏剂具有如下结构通式：用该光敏剂制备的光刻胶，具有化学稳定性好、抗腐蚀好、抗高温等突出优点。

著录项

公开/公告号CN105801787B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-22

原文格式PDF
申请/专利权人宋芳;
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申请/专利号CN201610259070.8
发明设计人宋芳;
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申请日2016-04-25
分类号C08G14/04(20060101);C08G14/12(20060101);G03F7/012(20060101);
代理机构32223 淮安市科文知识产权事务所;
代理人谢观素
地址 223600 江苏省宿迁市沭阳县经济开发区慈溪路24号
入库时间 2022-08-23 10:11:14

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-09-11

专利权的转移 IPC(主分类):C08G14/04 登记生效日:20180822 变更前: 变更后: 申请日:20160425

专利申请权、专利权的转移
2018-05-22

授权

授权
2016-08-24

实质审查的生效 IPC(主分类):C08G14/04 申请日:20160425

实质审查的生效
2016-07-27

公开

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