法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-04
授权
授权
2016-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):C21D7/13 申请日:20160817
实质审查的生效
2016-11-16
公开
公开
机译: 一种扩大尺寸的结构中形成硅化物,锗化物或锗硅化物的方法的方法和扩大工艺窗口的方法
机译: 一种扩大尺寸的结构中形成硅化物,锗化物或锗硅化物的方法的方法和扩大工艺窗口的方法
机译: 一种用于在蚀刻停止层的蚀刻期间控制半导体组件的金属化系统中的沟槽的临界尺寸的方法