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包含非离子性表面活性剂及含有至少一个酸基团的芳族化合物的化学机械抛光(CMP)组合物

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本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒呈茧形，(B)非离子性表面活性剂，(C)包含至少一个酸基团(Y)的芳香化合物或其盐，及(M)水性介质。

著录项

公开/公告号CN104412316B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-04-20

原文格式PDF
申请/专利权人巴斯夫欧洲公司;
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申请/专利号CN201380036022.7
发明设计人 R·赖夏特;Y·李;M·劳特尔;
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申请日2013-06-27
分类号
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人王丹丹
地址德国路德维希港
入库时间 2022-08-23 10:10:36

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-04-20

授权

授权
2015-07-29

实质审查的生效 IPC(主分类):G09G1/02 申请日:20130627

实质审查的生效
2015-03-11

公开

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1. 包含非离子性表面活性剂及含有至少一个酸基团的芳族化合物的化学机械抛光(CMP)组合物 [P] . 中国专利： CN104412316B . 2018.04.20
2. 包含至少一种阴离子表面活性剂、至少两种特定的非离子表面活性剂、至少一种两性表面活性剂以及至少一种特定的阳离子聚合物的组合物 [P] . 中国专利： CN108348428A . 2018-07-31
3. A chemical mechanical polishing (CMP) composition comprising a non-ionic surfactant and an aromatic compound comprising at least one acid group [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2682441A1 . 2014-01-08

机译：化学机械抛光（CMP）组合物，其包含非离子表面活性剂和包含至少一个酸基的芳族化合物
4. USE OF A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A NON-IONIC SURFACTANT AND AN AROMATIC COMPOUND COMPRISING AT LEAST ONE ACID GROUP [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2870599B1 . 2018-10-17

机译：包含非离子表面活性剂和至少一个酸基团的芳香族化合物的化学机械抛光（CMP）组合物的使用
5. A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A NON-IONIC SURFACTANT AND AN AROMATIC COMPOUND COMPRISING AT LEAST ONE ACID GROUP [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2870599A4 . 2016-03-30

机译：包含非离子表面活性剂和至少一个酸基团的芳香族化合物的化学机械抛光（CMP）组合物

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