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一种调控铁电薄膜三阶非线性光学吸收特性的方法

摘要

本发明公开了一种调控铁电薄膜三阶非线性光学吸收特性的方法,主要包括以下步骤:1)利用脉冲激光沉积技术,在透明衬底上制备存在缺陷能级的具有三阶非线性光学吸收特性的铁电薄膜;2)通过薄膜生长过程中厚度的控制,调控薄膜的禁带宽度大小。禁带宽带与缺陷能级的共同作用实现铁电薄膜三阶非线性光学吸收类型的转变和吸收系数的增大。铁电薄膜材料本身存在的非线性光学特性使其在非线性光子器件领域具有潜在的应用前景,而通过薄膜厚度调控它的三阶非线性光学吸收特性,不仅能拓宽其应用范围,还能提高其应用品质。本发明公开的调控铁电薄膜三阶非线性光学吸收特性的方法,操作简单,可行性高,利于实现工业化。

著录项

  • 公开/公告号CN104678674B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湘潭大学;

    申请/专利号CN201510106734.2

  • 发明设计人 钟向丽;李山;王金斌;张园;

    申请日2015-03-12

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 411105 湖南省湘潭市雨湖区羊牯塘湘潭大学

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-30

    授权

    授权

  • 2015-07-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02F1/355 申请日:20150312

    实质审查的生效

  • 2015-06-03

    公开

    公开

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