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一种UV处理机台工艺性能的日常检查方法

摘要

一种UV处理机台工艺状态的日常检查方法,包括以下步骤:步骤1、将一硅光片送入一UV处理机台中,并将所述UV处理机台的工艺温度稳定在一基准值;步骤2、采用一UV光对所述硅光片进行照射,以得到UV处理机台在一段时间内的温度变化率;步骤3、对所述温度变化率进行监控。使用所述检查方法的有益效果为:1)及时:监控工艺条件执行完毕就可得到检查结果;2)准确:通过传感器直接收集温度数据,可排除光阻差别等中间环节带来的误差;3)低成本:降低了硅片、光阻、量测等的物料及机时成本;4)低风险:降低了光阻片在使用固胶工艺监控及再生过程中的颗粒、胶残留对硅片及机台的污染等风险。

著录项

  • 公开/公告号CN104485299B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201410714988.8

  • 发明设计人 王一;杨渝书;绍克坚;郭敏;

    申请日2014-11-28

  • 分类号

  • 代理机构上海申新律师事务所;

  • 代理人吴俊

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-27

    授权

    授权

  • 2015-04-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20141128

    实质审查的生效

  • 2015-04-01

    公开

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