首页> 中国专利> 一种化学镀液在低浓度标准气体包装容器处理中的应用

一种化学镀液在低浓度标准气体包装容器处理中的应用

摘要

本发明涉及气体包装容器的表面处理过程,具体地说是一种化学镀液及在低浓度标准气体包装容器处理中的应用。镀液以次亚磷酸钠作为还原剂,硫酸镍作为主盐,附加络合剂、加速剂、稳定剂,其应用是首先对容器内表面采用重量浓度为5~15%的H2SO4作为活化液,在室温下活化时间为:3~10分钟;然后在容器内表面化学镀惰性镀层,将化学镀液各成分均匀混合后进行化学镀,温度:84~88℃,pH:4.4~4.8,装载比:3~4dm2/l;然后采用CrO3进行封孔处理。采用本发明可以使气体包装容器内表面形成光滑、无孔隙、厚度均匀、减少气体吸附以及增强耐蚀性等的惰性镀层,用于充装低浓度标准气体。

著录项

  • 公开/公告号CN1283833C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院金属研究所;

    申请/专利号CN03133450.4

  • 申请日2003-06-13

  • 分类号C23C18/36(20060101);

  • 代理机构21002 沈阳科苑专利商标代理有限公司;

  • 代理人许宗富;周秀梅

  • 地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 18/36 授权公告日:20061108 终止日期:20160613 申请日:20030613

    专利权的终止

  • 2006-11-08

    授权

    授权

  • 2006-11-08

    授权

    授权

  • 2005-03-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-03-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-01-19

    公开

    公开

  • 2005-01-19

    公开

    公开

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