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制备尺寸可控的高取向有机小分子半导体单晶图案的方法

摘要

本发明公开了一种制备尺寸可控的高取向有机小分子半导体单晶图案的方法,本发明基于毛细力刻蚀和聚合物辅助有机蒸汽处理,与传统的毛细力刻蚀不同的是,本发明采用溶剂软化样品。在聚合物辅助有机蒸汽处理毛细力刻蚀过程中,将与模板紧密接触的有机小分子半导体/聚合物混合膜暴露在饱和有机蒸汽中,使其软化甚至部分溶解。在毛细力的作用下,聚合物带动有机小分子半导体沿模板侧壁攀升,填充入模板与基底形成的沟槽中,有机小分子半导体在模板图案限制和毛细力的双重作用下取向重结晶,最终在聚合物上形成高取向的有机小分子半导体单晶微结构。有机蒸汽和聚合物为有机小分子半导体重结晶提供了媒介。本发明通过调控聚合物种类、混合溶液浓度、有机溶剂种类以及蒸汽压,可以在聚合物表面上形成大面积、尺寸均一、高取向的有机小分子半导体单晶图案。

著录项

  • 公开/公告号CN103972388B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学;

    申请/专利号CN201410196018.3

  • 发明设计人 王哲;高明圆;吴君辉;袁艺;

    申请日2014-05-09

  • 分类号H01L51/00(20060101);H01L51/40(20060101);

  • 代理机构11121 北京永创新实专利事务所;

  • 代理人姜荣丽

  • 地址 100191 北京市海淀区学院路37号

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-02

    授权

    授权

  • 2014-09-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/00 申请日:20140509

    实质审查的生效

  • 2014-08-06

    公开

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