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等离子体生成装置和使用该等离子体生成装置的清洗装置

摘要

等离子体生成装置(1)配备有等离子体生成部(10)、等离子体电源部(2)和气体供给部(3)。等离子体生成部包括用于将液体容纳部(15)和气体容纳部(14)隔开的隔壁部(12)。隔壁部具有用于将从气体供给部供给的并且容纳在气体容纳部中的气体引导至液体容纳部的气体通路(13)。第一电极(18)配置在气体容纳部内并且第二电极(19)配置在液体容纳部内。等离子体电源部生成供给至第一电极和第二电极的电位,并且将第二电极的电位设置为比第一电极的电位低的值。第二电极由引起溅射现象的材料、材料化合物和材料混合器其中之一形成。

著录项

  • 公开/公告号CN104938037B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 松下知识产权经营株式会社;

    申请/专利号CN201380064927.5

  • 发明设计人 佐近茂俊;实松涉;

    申请日2013-11-26

  • 分类号H05H1/24(20060101);A45D27/46(20060101);B08B3/10(20060101);B08B7/00(20060101);B26B19/48(20060101);

  • 代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-26

    授权

    授权

  • 2015-10-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/24 申请日:20131126

    实质审查的生效

  • 2015-09-23

    公开

    公开

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