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高反差高强度耐高温格栅制作方法

摘要

本申请公开了一种高反差高强度耐高温格栅制作方法,包括估算格栅频率,根据格栅频率选择选择有掩膜和无掩膜两种工艺中的一种,利用激光打标机在试件表面制作一定槽深的所需频率的正交格栅,选择耐高温微纳米颗粒,通过喷涂方式使耐高温微纳米颗粒吸附在试件格栅表面的凹槽处,擦除格栅凸起处吸附的耐高温微纳米颗粒,最后进行高温烧结,从而制得高反差高强度耐高温格栅。此种方法操作简单可行,制作的高温格栅对比度强,具有很好的高温稳定性,适用于复杂恶劣的高温环境下的变形测量。

著录项

  • 公开/公告号CN105807347B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-02-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201610298692.1

  • 发明设计人 刘战伟;张琦;谢惠民;

    申请日2016-05-06

  • 分类号G02B5/18(20060101);G01B11/16(20060101);

  • 代理机构11603 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人于淼

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号院

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B5/18 授权公告日:20180213 终止日期:20190506 申请日:20160506

    专利权的终止

  • 2018-02-13

    授权

    授权

  • 2016-08-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20160506

    实质审查的生效

  • 2016-07-27

    公开

    公开

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