公开/公告号CN1270201C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-08-16
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN200410066745.4
申请日2004-09-28
分类号G02B26/10(20060101);G02B27/22(20060101);G02B27/00(20060101);
代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;
代理人张泽纯
地址 201800 上海市800-211邮政信箱
入库时间 2022-08-23 08:58:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-12-07
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 26/10 授权公告日:20060816 终止日期:20100928 申请日:20040928
专利权的终止
2006-08-16
授权
授权
2005-05-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-03-02
公开
公开
机译: 使用光瞳滤波器通过图像重建进行光掩模光刻的检查方法和设备
机译: 使用带有光瞳滤波器的二进制掩模提高图案分辨率的方法
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