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增加穿透式小角度X光散射的散射强度的装置

摘要

本揭露提供一种增加穿透式小角度X光散射(tSAXS)的散射强度的装置,包含:增强光栅元件,设置于与待测光栅元件相距在入射X光的纵向相干长度内;以及提供纳米级精确度的放置机构,可调置增强光栅元件与待测光栅元件的横向及纵向相对对位或位置,达纳米级精确度。

著录项

  • 公开/公告号CN104807841B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 财团法人工业技术研究院;

    申请/专利号CN201410544535.5

  • 发明设计人 傅尉恩;吴文立;

    申请日2014-10-15

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人梁挥

  • 地址 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-26

    授权

    授权

  • 2015-08-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/201 申请日:20141015

    实质审查的生效

  • 2015-07-29

    公开

    公开

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