首页> 中国专利> 用于工业过程控制和测量系统的诊断

用于工业过程控制和测量系统的诊断

摘要

现场设备(20,200)包括诊断电路(36),所述的诊断电路(36)适合于测量与过程控制和测量系统(10)相关的特性。该测量的特性用来提供表示过程控制和测量系统(10)的条件的诊断输出。可以将测量的特性提供给诊断模块,该诊断的模块依据测量的特性进行操作,以便预测或者建模过程控制和测量系统(10)的条件。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-10-18

    授权

    授权

  • 2004-12-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-10-06

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号