公开/公告号CN104727801B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-12-26
原文格式PDF
申请/专利号CN201510115027.X
申请日2015-03-17
分类号E21B43/267(20060101);C09K8/80(20060101);
代理机构37219 济南金迪知识产权代理有限公司;
代理人杨磊
地址 257000 山东省东营市西三路306号
入库时间 2022-08-23 10:05:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-26
授权
授权
2015-07-22
实质审查的生效 IPC(主分类):E21B43/267 申请日:20150317
实质审查的生效
2015-06-24
公开
公开
机译: 使用低密度,中性浮力支撑剂的极端过度平衡的射孔和压裂工艺
机译: 使用低密度,中性浮力支撑剂的极端过度平衡的射孔和压裂工艺
机译: 使用低密度中性浮力支撑剂的平衡射孔和压裂工艺