法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-26
授权
授权
2015-11-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G01K3/10 申请日:20150806
实质审查的生效
2015-10-28
公开
公开
机译: 半导体晶片的预处理温度均匀性检测装置以及用于记录半导体晶片的预处理温度均匀性检测装置的动作程序的记录介质
机译: 一种用于制造荧光材料混合物的装置,一种用于检查荧光材料混合物的均匀性的装置以及一种用于检查荧光材料混合物的均匀性的方法,该方法能够检测出混合物的终止点
机译: 用于开发处理晶圆整体表面的均匀性的方法,该晶圆具有高的均匀性,一种计算机存储介质以及一种基板处理装置