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一种基于界面修饰的掺杂聚硅氧烷溶胶减反射膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于界面修饰的掺杂聚硅氧烷溶胶减反射膜的制备方法,在基片表面生长减反射膜后,对该减反射膜进行预处理,保证减反射膜上形成羟基基团,接着将生长有减反射膜的基片浸入含有巯基的溶液中,通过分子自组装的方式,在减反射膜形成含巯基的单分子功能层,最后用去离子水冲洗,去除残留的溶剂,吹干。本发明是在减反射膜表面引入单分子功能层,单分子功能层材料的分子链较短,具有一定的刚性,当单分子层均匀的覆盖在材料的表面时,可以封闭振动和能量耗散,且分子间范德华作用力较小,有序性和堆积密度低,进而可以有效提高减反射膜的表面硬度,并提高了减反射膜的透射率,具有明显的增透效果。

著录项

  • 公开/公告号CN105826404B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201610178576.6

  • 发明设计人 赵炎;魏葳;

    申请日2016-03-25

  • 分类号

  • 代理机构西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人徐文权

  • 地址 710077 陕西省西安市高新区锦业一路2号陕西煤业化工集团公司

  • 入库时间 2022-08-23 10:04:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-28

    授权

    授权

  • 2016-08-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0216 申请日:20160325

    实质审查的生效

  • 2016-08-03

    公开

    公开

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