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一种提高大口径离子源离子束流均匀性的方法

摘要

本发明公开了一种提高大口径离子源离子束流均匀性的方法,其步骤为:S1:设置具有引出孔的栅网;将栅网安装在离子源放电室束流出口位置,对其束流密度均匀性进行测试,并绘出束流密度分布图A;S2:调整栅网上引出孔的分布;根据束流密度分布图A,调整栅网上引出孔的分布;将调整引出孔分布后的栅网安装在同一个离子源放电室相同束流出口位置,对其束流密度均匀性进行测试,并绘出束流密度分布图B;S3:二次调整栅网上引出孔的分布;根据束流密度分布图B,再细微调整栅网上引出孔的分布;S4:安装栅网;安装最终的栅网,离子源离子束均匀性即满足要求。本发明具有原理简单、操作简便、能够降低成本等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN105575748B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201510915124.7

  • 发明设计人 张赛;佘鹏程;陈特超;陈庆广;

    申请日2015-12-11

  • 分类号

  • 代理机构湖南兆弘专利事务所(普通合伙);

  • 代理人周长清

  • 地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号

  • 入库时间 2022-08-23 10:04:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-21

    授权

    授权

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/02 申请日:20151211

    实质审查的生效

  • 2016-05-11

    公开

    公开

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