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一种高绝缘高强度聚酰亚胺黑膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种高绝缘高强度聚酰亚胺黑膜的制备方法,包括采用由均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'‑二苯酮四酸二酐以及三苯二醚二酐组成的二酐混合物与二胺共聚来制备聚酰胺酸溶液,同时由黑色填料、消光剂、偶联剂组成的添加剂来制备黑色颜料浆料,最后将黑色颜料浆料加入聚酰胺酸溶液中,其中由黑色填料、消光剂、偶联剂组成的添加剂与聚酰胺酸的重量比为0.5%‑5%,然后加入溶剂调节控制最后反应生成物的粘度达到90000±5000 cP,然后脱泡流延成膜即可。本发明所得到的高绝缘强度聚酰亚胺黑膜具有高绝缘度和良好的机械性能,特别是具有良好的韧性,耐弯折。

著录项

  • 公开/公告号CN105482115B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宁波今山电子材料有限公司;

    申请/专利号CN201510918573.7

  • 申请日2015-12-11

  • 分类号C08G73/10(20060101);C08J5/18(20060101);C08K9/06(20060101);C08K3/04(20060101);C08K3/30(20060101);C08K3/36(20060101);C08K3/22(20060101);

  • 代理机构33241 杭州斯可睿专利事务所有限公司;

  • 代理人毛翔威

  • 地址 315217 浙江省宁波市鄞州区云龙镇前后陈工业园区4号厂房(宁波今山电子材料有限公司)

  • 入库时间 2022-08-23 10:03:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-24

    授权

    授权

  • 2016-05-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 73/10 申请日:20151211

    实质审查的生效

  • 2016-05-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 73/10 申请日:20151211

    实质审查的生效

  • 2016-04-13

    公开

    公开

  • 2016-04-13

    公开

    公开

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