首页> 中国专利> 可射出将干涉条纹的影响降低的光的光源装置以及采用该光源装置的投影仪

可射出将干涉条纹的影响降低的光的光源装置以及采用该光源装置的投影仪

摘要

本发明的光源装置及投影仪,为了减小激光的干涉条纹的厚度,特征在于:①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性;或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置;或者③使准直透镜的聚光度分别不同。

著录项

  • 公开/公告号CN105223765B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡西欧计算机株式会社;

    申请/专利号CN201510764917.3

  • 发明设计人 黑崎秀将;

    申请日2013-12-19

  • 分类号G03B21/20(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人徐殿军

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:03:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-24

    授权

    授权

  • 2016-02-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03B 21/20 申请日:20131219

    实质审查的生效

  • 2016-02-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03B 21/20 申请日:20131219

    实质审查的生效

  • 2016-01-06

    公开

    公开

  • 2016-01-06

    公开

    公开

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