首页> 中国专利> 测试光掩模、光斑评估方法以及光斑补偿方法

测试光掩模、光斑评估方法以及光斑补偿方法

摘要

通过使用一个线图案以及一个带状图案,前者成为待测试的图案,后者成为一个光斑引起图案,它形成一个环绕着线图案的透光区域,并且令局部光斑出现在线图案之上,由于带状图案在线图案上生成的局部光斑的影响被测量为用于评估的线图案上的线宽。此外,这个测量数值被用来补偿局部光斑对每一个真实图案的影响。

著录项

  • 公开/公告号CN1261994C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN03110567.X

  • 发明设计人 八尾輝芳;羽入勇;桐越勝義;

    申请日2003-04-10

  • 分类号H01L21/66(20060101);H01L21/027(20060101);G03F7/00(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人李强

  • 地址 日本神奈川

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-08-25

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/66 变更前: 变更后: 申请日:20030410

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-08-25

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/66 变更前: 变更后: 申请日:20030410

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2009-01-21

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20081212 申请日:20030410

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2006-06-28

    授权

    授权

  • 2004-04-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-02-04

    公开

    公开

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