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一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统及工艺

摘要

本发明公开了一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统及工艺,其中蚀刻掩膜喷墨直接成像系统包括喷墨打印机、图形文本点阵化输出控制模块以及蚀刻掩膜墨水。本发明公开了一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统及工艺,相比较传统的蚀刻工艺,简化了工艺操作步骤,提高了生产效率,并节省了更多的劳动成本以及劳动力。

著录项

  • 公开/公告号CN105730008B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 张琳;

    申请/专利号CN201610232335.5

  • 发明设计人 张琳;

    申请日2016-04-14

  • 分类号B41J2/01(20060101);B41J11/00(20060101);

  • 代理机构11371 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人毕强

  • 地址 065000 河北省廊坊市三河市燕郊开发区首钢机械厂1号院9号楼1单元602号

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-09

    专利权的转移 IPC(主分类):B41J 2/01 登记生效日:20180914 变更前: 变更后: 申请日:20160414

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-09-22

    授权

    授权

  • 2017-09-22

    授权

    授权

  • 2016-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):B41J2/01 申请日:20160414

    实质审查的生效

  • 2016-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):B41J 2/01 申请日:20160414

    实质审查的生效

  • 2016-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):B41J 2/01 申请日:20160414

    实质审查的生效

  • 2016-07-06

    公开

    公开

  • 2016-07-06

    公开

    公开

  • 2016-07-06

    公开

    公开

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