公开/公告号CN105148971B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-09-15
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院理化技术研究所;
申请/专利号CN201510530690.6
申请日2015-08-26
分类号B01J27/24(20060101);C25B1/04(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);
代理机构11257 北京正理专利代理有限公司;
代理人张文祎
地址 100190 北京市海淀区中关村东路29号中国科学院理化技术研究所
入库时间 2022-08-23 10:00:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-15
授权
授权
2016-01-13
实质审查的生效 IPC(主分类):B01J 27/24 申请日:20150826
实质审查的生效
2016-01-13
实质审查的生效 IPC(主分类):B01J 27/24 申请日:20150826
实质审查的生效
2015-12-16
公开
公开
2015-12-16
公开
公开
机译: 用于高性能CMOS应用的超薄HF掺杂硅氧氮化物膜及其制造方法
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