首页> 中国专利> 一种化合物及其用于合成碘帕醇杂质D、杂质F、杂质G和杂质J的方法

一种化合物及其用于合成碘帕醇杂质D、杂质F、杂质G和杂质J的方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明涉及非离子型X射线照相造影剂碘帕醇杂质D、F、G和J的合成方法，以新化合物式(Ⅳ)为起始原料，为碘帕醇的质量控制提供合格的对照品，式(Ⅳ)的结构如下所示：

著录项

公开/公告号CN105272899B

专利类型发明专利
公开/公告日2017-09-22

原文格式PDF
申请/专利权人浙江海洲制药有限公司;
展开▼

申请/专利号CN201510791791.9
发明设计人宋卫;怀哲明;刘成珠;何启航;马刚;尚洋;吴舜杨;
展开▼

申请日2015-11-17
分类号C07D207/404(20060101);C07C237/46(20060101);C07C231/12(20060101);
代理机构33272 杭州奥创知识产权代理有限公司;
代理人杨嘉芳
地址 317016 浙江省台州市临海市沿海工业园区
入库时间 2022-08-23 10:00:30

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-09-22

授权

授权
2016-02-24

实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 207/404 申请日:20151117

实质审查的生效
2016-02-24

实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 207/404 申请日:20151117

实质审查的生效
2016-01-27

公开

公开
2016-01-27

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 一种化合物及其用于合成碘帕醇杂质D、杂质F、杂质G和杂质J的方法 [P] . 中国专利： CN105272899B . 2017.09.22
2. 碘帕醇杂质A和杂质B的合成方法 [P] . 中国专利： CN105461581A . 2016-04-06
3. ABSORBENT COMPOSITION DESIGNED FOR REMOVING CONTAMINANTS, MAINLY SULFUR COMPOUNDS, CONTAINED IN LIQUID AND GASEOUS STREAMS, A METHOD FOR OBTAINING A DESIGNED ABSORBENT COMPOSITION, A METHOD FOR REMOVING IMPURITIES, MAINLY SULFUR COMPOUNDS, INCLUDING HYDROGEN SULFIDE, CONTAINED IN LIQUID OR GASEOUS STREAMS, AND USE OF AN ABSORBENT COMPOSITION [P] . 美国专利： US2013216833A1 . 2013-08-22

机译：设计用于去除液态和气态污染物的污染物，主要是硫化合物的吸收剂组合物，用于设计吸收性成分的方法，用于去除杂质，杂质，杂质，杂质，杂质，杂质或杂质的方法吸收剂组合物
4. ABSORBENT COMPOSITION DESIGNED FOR REMOVING CONTAMINANTS, MAINLY SULPHUR COMPOUNDS, CONTAINED IN LIQUID AND GASEOUS STREAMS, METHOD FOR OBTAINING A DESIGNED ABSORBENT COMPOSITION, METHOD FOR REMOVING IMPURITIES, MAINLY SULPHUR COMPOUNDS, INCLUDING HYDROGEN SULPHIDE, CONTAINED IN LIQUID OR GASEOUS STREAMS, AND USE OF AN ABSORBENT COMPOSITION [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2609985A4 . 2017-08-09

机译：设计用于去除液态和气态污染物的污染物，主要是硫化合物的吸收剂组合物，用于设计去除杂质的方法，主要用于去除杂质，杂质，杂质，固溶物，固溶物，杂质，杂质的方法吸收剂组成
5. ABSORBENT COMPOSITION DESIGNED FOR REMOVING CONTAMINANTS, MAINLY SULPHUR COMPOUNDS, CONTAINED IN LIQUID AND GASEOUS STREAMS, METHOD FOR OBTAINING A DESIGNED ABSORBENT COMPOSITION, METHOD FOR REMOVING IMPURITIES, MAINLY SULPHUR COMPOUNDS, INCLUDING HYDROGEN SULPHIDE, CONTAINED IN LIQUID OR GASEOUS STREAMS, AND USE OF AN ABSORBENT COMPOSITION [P] . 韩国专利： KR20140005869A . 2014-01-15

机译：设计用于去除液态和气态污染物的污染物，主要是硫化合物的吸收剂组合物，用于设计去除杂质的方法，主要用于去除杂质，杂质，杂质，杂质，氢，固溶物，杂质，固溶物的方法吸收剂组成