首页> 中国专利> EUV范围的反射镜、制造该反射镜的方法及包含该反射镜的投射曝光设备

EUV范围的反射镜、制造该反射镜的方法及包含该反射镜的投射曝光设备

摘要

本发明涉及一种对于0°和25°之间的至少一个入射角具有大于40%的反射率的EUV波长范围的反射镜(1),包含:基板(S)和层布置,其中所述层布置包含至少一个非金属单独层(B,H,M),以及其中所述非金属单独层(B,H,M)掺杂有介于10ppb至10%之间,尤其介于100ppb和0.1%之间的杂质原子,使得非金属单独层(B,H,M)获得大于6*10

著录项

  • 公开/公告号CN104254891B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;

    申请/专利号CN201380013152.9

  • 发明设计人 P.休伯;G.冯布兰肯哈根;

    申请日2013-03-06

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陈金林

  • 地址 德国上科亨

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-12

    授权

    授权

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G21K 1/06 申请日:20130306

    实质审查的生效

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G21K 1/06 申请日:20130306

    实质审查的生效

  • 2014-12-31

    公开

    公开

  • 2014-12-31

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号