法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-08-25
授权
授权
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C01F 17/00 申请日:20160928
实质审查的生效
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C01F 17/00 申请日:20160928
实质审查的生效
2017-03-08
著录事项变更 IPC(主分类):C01F 17/00 变更前: 变更后: 申请日:20160928
著录事项变更
2017-03-08
著录事项变更 IPC(主分类):C01F 17/00 变更前: 变更后: 申请日:20160928
著录事项变更
2017-02-22
公开
公开
2017-02-22
公开
公开
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机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法