铱－钽－氧化物电极的等离子体腐蚀方法及腐蚀后的清洗方法

摘要

一种在集成电路中形成电极的方法，包括制备基于硅的衬底，包括衬底上形成半导体结构以形成集成衬底结构；在衬底结构上淀积一层电极材料；构图电极材料层形成电极部件，其中所述构图包括在含有氟成分的腐蚀气体气氛中的等离子体反应室中等离子体腐蚀电极材料层；以及在去离子水槽中清洗衬底结构和电极部件。