首页> 中国专利> 抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法

抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法

摘要

一种抗蚀剂除去组合物,具有除去抗蚀剂、聚合物、有机金属聚合物和蚀刻副产品如金属氧化物的优异性能,该抗蚀剂除去组合物不侵蚀暴露于组合物中的下层并且在清洗后不留下残余物,该抗蚀剂除去组合物含烷氧基N-羟烷基链烷酰胺和溶胀剂。

著录项

  • 公开/公告号CN1256629C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-05-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN02108303.7

  • 申请日2002-03-28

  • 分类号G03F7/42(20060101);C11D7/32(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王杰

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/42 授权公告日:20060517 终止日期:20150328 申请日:20020328

    专利权的终止

  • 2006-05-17

    授权

    授权

  • 2004-10-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-04-02

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号