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抗反应性等离子体处理的保护涂层

摘要

本发明的实施方式涉及含金属氧氟化物的釉料或含金属氟化物的釉料组合物、玻璃陶瓷组合物及其组合,其可用作抗等离子体固体基板或在其它基板上的抗等离子体保护涂层。本发明还描述制造各种结构的方法,所述方法包括掺入上述组合物,所述结构包括固体基板及在基板表面上的涂层,所述基板具有高于约1600℃的熔点,诸如为铝氧化物、铝氮化物、石英、硅碳化物、硅氮化物。

著录项

  • 公开/公告号CN102245540B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN200980145269.6

  • 申请日2009-11-12

  • 分类号C04B41/85(20060101);C04B41/87(20060101);C04B41/45(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陆嘉

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:58:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-07

    授权

    授权

  • 2012-02-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 41/85 申请日:20091112

    实质审查的生效

  • 2012-02-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 41/85 申请日:20091112

    实质审查的生效

  • 2011-11-16

    公开

    公开

  • 2011-11-16

    公开

    公开

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