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含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物

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摘要

本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包括(a)光致抗蚀剂树脂，(b)光酸产生剂，(c)有机溶剂，及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2的氧-酰基肟化合物，其中，R′、R1至R6为根据说明书所定义。本发明的组合物可避免斜线图案生成及严重的I/D偏差发生。

著录项

  • 公开/公告号CN1258119C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 现代电子产业株式会社;

    申请/专利号CN00124850.2

  • 发明设计人 郑载昌;金珍秀;孔根圭;白基镐;

    申请日2000-09-19

  • 分类号G03F7/00(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王维玉;丁业平

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-12-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/00 授权公告日:20060531 终止日期:20091019 申请日:20000919

    专利权的终止

  • 2006-05-31

    授权

    授权

  • 2002-10-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2001-08-29

    发明专利申请公开说明书更正 卷:17 号:13 页码:扉页 更正项目:摘要 误:漏打部分内容 正:IMAGE SRC=0.GIF 申请日:20000919

    发明专利申请公开说明书更正

  • 2001-08-29

    发明专利公报更正更正 卷:17 号:13 页码:73 更正项目:摘要 误:漏打部分内容 正:IMAGE SRC=0.GIF 申请日:20000919

    发明专利公报更正

  • 2001-03-28

    公开

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