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用于45度平面镜面形检测的子孔径拼接测量装置与方法

摘要

一种用于45度平面镜面形检测的子孔径拼接测量装置,包括:斐索干涉仪、第一标准镜、第二标准镜、45度平面镜、拼接位移台、二维调整架、倾斜二维调整架。本发明在被测45度平面镜上方加入反射镜,使光原路返回,对45度平面镜进行子孔径拼接干涉测量,采用变权重法对子孔径面形数据进行拼接,得到全口径面形。本发明具有:1,操作简易,45度平面镜镜面不易变形,测量精度高;2,子孔径面形数据采用变权重数据融合拼接,精度高;3,通过改变第一标准镜和第二标准镜的反射率,既可以测量未镀膜面,也可以测量高反面,均有较高的干涉对比度的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN104154876B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410422479.8

  • 发明设计人 李永;唐锋;王向朝;李杰;吴飞斌;

    申请日2014-08-26

  • 分类号

  • 代理机构上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人张泽纯

  • 地址 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:58:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-14

    授权

    授权

  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/24 申请日:20140826

    实质审查的生效

  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/24 申请日:20140826

    实质审查的生效

  • 2014-11-19

    公开

    公开

  • 2014-11-19

    公开

    公开

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