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光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法

摘要

本发明涉及光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法。本发明提供一种光学应用二氧化硅或二氧化硅基薄膜,其中共掺有硅纳米团簇和稀土元素。硅纳米团簇的平均尺寸小于3nm,稀土元素的浓度小于0.1原子数%。在薄膜中,稀土元素与硅纳米团簇的浓度比控制在1到10的范围内。薄膜通过利用硅纳米团簇中电子-空穴重新组合激发稀土元素而发光。根据本发明,对诸如硅纳米团簇的尺寸和浓度、稀土元素的浓度以及它们的浓度比等条件进行特别的优化,以制造性能更好的光学装置。

著录项

  • 公开/公告号CN1260587C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-06-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 光神有限会社;

    申请/专利号CN03802967.7

  • 发明设计人 慎重勋;徐世永;韩学承;

    申请日2003-01-29

  • 分类号

  • 代理机构北京润平知识产权代理有限公司;

  • 代理人周建秋

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-04-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 6/10 授权公告日:20060621 终止日期:20110129 申请日:20030129

    专利权的终止

  • 2006-06-21

    授权

    授权

  • 2005-08-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-08

    公开

    公开

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