用于高纵横比及大横向尺寸结构的度量系统及方法

摘要

本发明提供用于高纵横比及大横向尺寸结构的各种度量系统及方法。一种方法包含将光引导到在晶片上形成的一或多个结构。所述光包含紫外光、可见光及红外光。所述一或多个结构包含至少一个高纵横比结构或至少一个大横向尺寸结构。所述方法还包含产生响应于归因于引导到所述一或多个结构的所述光而来自所述一或多个结构的光的输出。另外，所述方法包含使用所述输出确定所述一或多个结构的一或多个特性。