法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-31
授权
授权
2016-04-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20151221
实质审查的生效
2016-03-16
公开
公开
机译: 曝光掩模的表面离子浓度的监控方法和监控系统,配备有该监控系统的曝光掩模清洁装置以及制造该曝光掩模的方法
机译: 用于执行电子束曝光系统的剂量控制的方法,包括为电子束曝光系统中的基本图形创建一组图案,并基于创建的图案确定剂量水平
机译: 光刻投影机中的动态剂量适应方法,涉及基于用于曝光每个曝光区域的时间设置与用于稳定抗蚀剂层的时间设置之间的差来设置每个曝光区域的曝光量。