法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-31
授权
授权
2015-01-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 17/02 申请日:20140921
实质审查的生效
2014-12-10
公开
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机译: 同时测量薄膜磁盘和硅片上的薄膜层厚度,反射率,粗糙度,表面轮廓和磁性图案的系统和方法
机译: 同时测量薄膜磁盘和硅片中薄膜层厚度,反射率,粗糙度,表面轮廓和磁图的系统和方法
机译: 用于同时测量硅晶片的薄膜层厚度和薄膜磁盘的磁性图案,反射率,粗糙度和表面轮廓的系统和方法