用于在批量处理中处理两个或更多基板的装置

摘要

本发明涉及一种用于通过使得基板(10)表面的至少一部分受到至少第一和第二前体的交替表面反应而在批量处理中处理两个或更多基板(10)的装置。该装置包括：多个基板保持器(6)，用于支承所述基板(10)；以及反应腔室(3)，该反应腔室包括反应空间(30)。该反应腔室(3)设置成用于在处理阶段中在反应空间(30)中的基板(10)的表面上沉积材料。基板保持器(6)安装或者布置成安装在反应腔室(3)内部，用于在处理阶段中处理在反应腔室(3)内部的基板(10)。在基板(10)通过装载装置(9)而装载至基板保持器(6)上的装载阶段中，至少一些基板保持器(6)布置成可彼此相对运动。