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一种紫外曝光机及其曝光量自动控制方法及其装置

摘要

本发明涉及一种紫外光曝光机曝光量控制装置为冷却罩(1)和(10)、光源(2)和(9)、遮光罩(3)和(8)、快门板(4)和(11)、传送带(5)、电动执行机构(6)和(18)、金属阴极板(7)、上探测器(12)和(13)、漫反射白板(14)和(17)、下探测器(15)和(16)、驱动器(19)、计算机(20)、信号放大变换器(21)和电缆(22),方法利用对曝光时间和曝光量以数字化的方式进行精确控制,设计具有光照强度测量、曝光量计算和曝光时间自动控制的紫外曝光机。在紫外光源的光照强度随时间发生强弱变化时,可探测结果来增加或减少曝光时间保证足够曝光量,减少光照过强或过弱产生影响,使生产合格率上有很大的提高。

著录项

  • 公开/公告号CN1236361C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200310115973.1

  • 发明设计人 郭永飞;

    申请日2003-12-25

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B5/02(20060101);G06F9/00(20060101);

  • 代理机构22001 长春科宇专利代理有限责任公司;

  • 代理人梁爱荣

  • 地址 130031 吉林省长春市东南湖大路16号

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-02-24

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-01-11

    授权

    授权

  • 2005-02-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-12-15

    公开

    公开

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